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代理專利文獻(xiàn)：8792，涉及專利：5750件

覆蓋主要的IPC大類包括：H01(916)、A61(328)、G01(313)、A47(294)、G02(257)、F16(248)、F25(245)、G03(211)、H04(206)、B65(203)

專利類型分布狀況：發(fā)明公開(4863)、外觀設(shè)計(jì)(683)、實(shí)用新型(204)

專利不同法律狀態(tài)數(shù)據(jù)分布狀況：失效專利(2904)、有效專利(1195)、無效專利(1174)、實(shí)質(zhì)審查(400)、公開(77)

涉及到的主要客戶：三星電子株式會社(2367)、株式會社電裝(418)、三星光州電子株式會社(275)、ASML荷蘭有限公司(239)、普拉德研究及開發(fā)股份有限公司(183)、泰科電子(上海)有限公司(122)、精工愛普生株式會社(121)、同方威視技術(shù)股份有限公司(107)、三星SDI株式會社(99)、日立工機(jī)株式會社(96)

涉及到的主要發(fā)明人：吳長根(51)、韓大成(24)、林懷榮(21)、安德斯·法人德芙(20)、孫鐘哲(17)、徐承敦(16)、宮川雅志(15)、樸在龍(15)、安宰局(14)、成翰俊(14)

發(fā)明專利授權(quán)成功率：62%

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專利類型	專利名稱	文獻(xiàn)號
發(fā)明公開	包括裝料裝置和支撐組件的旋轉(zhuǎn)式壓片機(jī)	CN119894480A
發(fā)明公開	包括導(dǎo)電層的電子裝置	CN119866670A
發(fā)明公開	用于二次電池的開槽裝置	CN119858198A
發(fā)明公開	殼體、包括殼體的電子裝置以及用于制造殼體的方法	CN119856577A
發(fā)明公開	半導(dǎo)體存儲器件	CN119855144A
發(fā)明公開	磷酸鹽化合物的處理	CN119790017A
發(fā)明公開	用于生產(chǎn)三維多孔吸附劑結(jié)構(gòu)的方法	CN119730952A
發(fā)明公開	包括散熱構(gòu)件的電子裝置	CN119698932A
發(fā)明公開	電擊電路設(shè)計(jì)	CN119678653A
發(fā)明公開	用于提供沉浸式圖像的顯示裝置	CN119678094A
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排名	企業(yè)名稱	專利
1	三星電子株式會社	2367
2	株式會社電裝	418
3	三星光州電子株式會社	275
4	ASML荷蘭有限公司	239
5	普拉德研究及開發(fā)股份有限公司	183
6	泰科電子(上海)有限公司	122
7	精工愛普生株式會社	121
8	同方威視技術(shù)股份有限公司	107
9	三星SDI株式會社	99
10	日立工機(jī)株式會社	96

排名	發(fā)明人	專利
1	吳長根	51
2	韓大成	24
3	林懷榮	21
4	安德斯·法人德芙	20
5	孫鐘哲	17
6	徐承敦	16
7	宮川雅志	15
8	樸在龍	15
9	安宰局	14
10	成翰俊	14

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