專(zhuān)利匯可以提供臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置專(zhuān)利檢索,專(zhuān)利查詢,專(zhuān)利分析的服務(wù)。并且本 發(fā)明 公開(kāi)了一種臥式刻面 寶石 冠部 亭部 反轉(zhuǎn)裝置,屬寶石加工技術(shù)領(lǐng)域,其技術(shù)要點(diǎn)包括 機(jī)架 ,在所述的機(jī)架上設(shè)有 轉(zhuǎn)軸 以及軸 支撐 座,所述的軸支撐座與轉(zhuǎn)軸活動(dòng)連接,在所述的轉(zhuǎn)軸上安裝有第一工作盤(pán)和第二工作盤(pán),在所述的第一工作盤(pán)和第二工作盤(pán)的外圓周上平均分布有數(shù)量相同的多個(gè)與圓周面垂直的 鐵 棒卡槽;在所述的第一工作盤(pán)和第二工作盤(pán)的下部側(cè)邊設(shè)置有至少一套紫外燈,在所述的第一工作盤(pán)和第二工作盤(pán)的下部外圍設(shè)有燈罩。利用本發(fā)明的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置能夠替代傳統(tǒng)手工反轉(zhuǎn)寶石冠部和亭部的操作,具有 定位 精準(zhǔn)、誤差小、效率高的特點(diǎn)。,下面是臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置專(zhuān)利的具體信息內(nèi)容。
1.一種臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,包括機(jī)架(1),其特征在于,在所述的機(jī)架(1)上設(shè)有轉(zhuǎn)軸(2)以及用于支撐轉(zhuǎn)軸(2)的軸支撐座(3),所述的軸支撐座(3)與轉(zhuǎn)軸(2)活動(dòng)連接,在所述的轉(zhuǎn)軸(2)上安裝有第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5),所述的第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5)大小相同并且同軸,在所述的第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5)的外圓周上平均分布有數(shù)量相同的多個(gè)與圓周面垂直的用于放置鐵棒的鐵棒卡槽(6);在所述的第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5)的下部側(cè)邊設(shè)置有至少一套紫外燈(7),在所述的第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5)的下部外圍設(shè)有防止紫外燈(7)燈光外泄的燈罩(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,所述第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5)外圓周上設(shè)置的鐵棒卡槽(6)數(shù)量相同,所述的第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5)的外圓周上平均分布有12個(gè)鐵棒卡槽(6)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,在每個(gè)所述的鐵棒卡槽(6)槽體底部設(shè)有用于吸住鐵棒的磁鐵塊(9)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,所述的軸支撐座(3)包括一對(duì)位于機(jī)架(1)上的軸承座(31)以及分別設(shè)置在每個(gè)軸承座(31)上的軸承(32),一對(duì)設(shè)置在所述軸承座(31)上的軸承(32)分別與轉(zhuǎn)軸(2)兩端活動(dòng)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,所述的第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5)的間距為40mm,所述的第一工作盤(pán)(4)和第二工作盤(pán)(5)的直徑為20mm、厚度為30mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,所述鐵棒卡槽(6)的截面是半徑為5mm的半圓。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,所述的紫外燈(7)為三套。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4所述的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,在所述燈罩(8)的上方安裝有防止紫外光外泄的蓋板(10)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臥式刻面寶石冠部亭部反轉(zhuǎn)裝置,其特征在于,在所述的機(jī)架(1)下方設(shè)有支撐腳(11)。
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