[0001] 本
發(fā)明涉及一種具有如下特征的用于在容器處理裝置中吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝預(yù)制體的無菌容器的方法：所述容器特別是塑料瓶，在該容器處理裝置的吹塑模
塊中包括吹塑模，其中，所述預(yù)制體經(jīng)由輸送裝置從加熱裝置被轉(zhuǎn)移至所述吹塑模，并且所述預(yù)制體在所述吹塑模中被成型為所述容器，所述容器被從所述吹塑模輸送至灌裝機并且被灌裝，其中對所述預(yù)制體和所述容器均進行滅菌處理，并且涉及具有如下特征的用于吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝預(yù)制體的無菌容器的容器處理裝置：在該容器處理裝置的吹塑模塊中包括吹塑模，所述容器處理裝置具有位于所述吹塑模塊的上游的用于所述預(yù)制體的加熱裝置，其中，所述預(yù)制體能夠被輸送裝置轉(zhuǎn)移至所述吹塑模，并且所述預(yù)制體在所述吹塑模中被成型為容器，然后所述容器被輸送至灌裝機并且被灌裝，所述容器處理裝置還具有用于所述預(yù)制體和所述容器的滅菌處理模塊。
[0002] 在從DE 10 2006 053 193 A中已知的方法中，由對預(yù)制體吹塑成型或拉伸吹塑成型而形成的容器在吹塑模塊和灌裝機之間的輸送路徑上被滅菌。 在該處理中，首先對內(nèi)表面進行滅菌處理，然后在外部通道中對外表面進行滅菌處理，最后利用無菌空氣進行清掃。 用于滅菌處理的設(shè)備和控制的復(fù)雜性高。 例如，需要具有升降裝置的處理星輪(treatment star)，該升降裝置包括復(fù)雜的控制系統(tǒng)，由于吹塑成型容器包括薄壁和大表面，所以必須采用相對低的壓
力和
溫度。 適于執(zhí)行該方法的裝置很大并且包括非常長的輸送路徑，特別是對于容器來說。
[0003] 在從EP 1 896 245 A中已知的方法中，在通向吹塑模塊的輸送路徑上已經(jīng)對預(yù)制體進行了兩次滅菌處理，這意味著在加熱裝置的上游進行第一次滅菌處理，在加熱裝置的下游進行另一次滅菌處理。 然而，特別是在吹塑模塊中，許多不能通過合理的措施而處于無菌狀態(tài)的部件與預(yù)制體和容器發(fā)生
接觸，使得容器在灌裝過程中可能再次被污染。 然而，該已知方法考慮了如下事實：由于壁厚相對厚的預(yù)制體具有較小的表面并且處于有利于滅菌處理的溫度，因此，從所采用的壓力和溫度的
角度考慮，能夠相對強烈和有效地進行預(yù)制體的滅菌處理，并且在吹塑成型或拉伸吹塑成型過程中通過改變氣體體積良好地去除了可能的殘留物。 最后，對于在滅菌處理中所使用的介質(zhì)，由于預(yù)制體的耐受性(ruggedness)，可以選擇較高的溫度的介質(zhì)來增強滅菌處理的效果。
[0004] 在從WO 2009/052800A中已知的方法中，利用發(fā)生器所產(chǎn)生的
能量束在通向加熱裝置的輸送路徑上對預(yù)制體進行第一次滅菌處理，并且再次利用發(fā)生器的能量束沿著容器的從吹塑模塊到吹塑模塊的排出部的輸送路徑對容器進行另一次滅菌處理。 預(yù)制體可能在加熱裝置中被再次污染，容器可能在吹塑模中和通向灌裝機的輸送路徑上被污染。
[0005] 在從EP 0 996 530 A中已知的方法中，預(yù)制體和容器均經(jīng)受滅菌處理。 在加熱裝置的上游和加熱裝置中、或者在加熱裝置與吹塑模塊之間進行預(yù)制體的滅菌處理。 在吹塑成型結(jié)束時進行容器的滅菌處理，因此容器可能隨后被再次污染。
[0006] 本發(fā)明的目的是提供上面提及的類型的方法和適于進行該方法的裝置，其允許僅利用關(guān)于設(shè)備和控制系統(tǒng)的稍許努力和灌裝所需的適當空間就能可靠地生產(chǎn)無菌容器。
[0007] 利用如下特征來實現(xiàn)上述目的的方法：用于在容器處理裝置中吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝預(yù)制體的無菌容器的方法，所述容器特別是塑料瓶，在該容器處理裝置的吹塑模塊中包括吹塑模，其中，所述預(yù)制體經(jīng)由輸送裝置從加熱裝置被轉(zhuǎn)移至所述吹塑模，并且所述預(yù)制體在所述吹塑模中被成型為所述容器，所述容器被從所述吹塑模輸送至灌裝機并且被灌裝，其中對所述預(yù)制體和所述容器均進行滅菌處理，所述方法的特征在于，在所述加熱裝置和所述吹塑模塊之間對所述預(yù)制體進行主滅菌處理，在通向所述灌裝機的輸送路徑中僅對所述容器進行次滅菌處理，利用如下特征來實現(xiàn)上述目的的裝置：一種用于吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝預(yù)制體的無菌容器的容器處理裝置，在該容器處理裝置的吹塑模塊中包括吹塑模，所述容器處理裝置具有位于所述吹塑模塊的上游的用于所述預(yù)制體的加熱裝置，其中，所述預(yù)制體能夠被輸送裝置轉(zhuǎn)移至所述吹塑模，并且所述預(yù)制體在所述吹塑模中被成型為容器，然后所述容器被輸送至灌裝機并且被灌裝，所述容器處理裝置還具有用于所述預(yù)制體和所述容器的滅菌處理模塊。
[0008] 通過對高溫表面相對小且結(jié)實的待處理預(yù)制體進行主滅菌處理，能夠更加強烈和有效地進行滅菌操作，使得從吹塑模塊出來的容器達到了很高的無菌標準，從而使次滅菌處理可以相對簡單，為了使容器在次滅菌處理中被真正地滅菌，最多僅必須去除灰塵和來自主滅菌處理的介質(zhì)的可能的殘留物。 然而，由于在吹塑模塊中發(fā)生氣體體積的多次變換，從而去除了可能存在的殘留成分，所以主滅菌處理產(chǎn)生殘留物的
風(fēng)險非常小。 由于預(yù)制體的結(jié)實，例如，如果氣態(tài)或液體介質(zhì)被用于滅菌處理，則可以在操作中采用高溫和高壓，所以主滅菌處理僅需要較短的輸送部。 對于作為
預(yù)防而進行的容器的次滅菌處理，也僅需要很少的時間和設(shè)備，例如，不需要具有升降
控制器的吹出星輪或加工星輪，如果容器專
門經(jīng)受滅菌處理，則該具有升降控制器的吹出星輪或加工星輪是必不可少的。 因此，能夠減少對于實施該方法的設(shè)備以及控制系統(tǒng)的努力。
[0009] 由于簡化了設(shè)備且縮短了輸送部，所以裝置需要更少的空間來進行滅菌處理。具有升降控制器的吹出星輪或加工星輪的省略減少了對于設(shè)備和控制系統(tǒng)的努力。 主滅菌處理已經(jīng)進行得非常徹底，使得到達吹塑模塊的預(yù)制體處于實際上無菌狀態(tài)，由于吹塑成型或拉伸吹塑成型過程中的高溫和氣體交換使得先前使用的介質(zhì)的可能的殘留物消失，因此次滅菌模塊可以被設(shè)計得相對緊湊，因此容器在此處的
停留時間短。
[0010] 根據(jù)本方法，利用預(yù)制體的耐受性和高溫能夠比較強烈地進行主滅菌處理，并且能夠獲得已經(jīng)很大程度上無菌的預(yù)制體，因此在次滅菌處理中，處理可以不強烈并且也相對短。 這里，可以采用并任意組合不同的滅菌處理用技術(shù)。 例如，在主滅菌處理中，在操作中采用氣態(tài)介質(zhì)優(yōu)選采用
熱處理過的氣態(tài)或
蒸汽態(tài)的過
氧化氫、和相對高的溫度和壓力，而次滅菌處理也可以采用該氣態(tài)介質(zhì)，但可以在較低的溫度和較低的壓力下進行，次滅菌處理也可以采用液體介質(zhì)，優(yōu)選基于過乙酸的液體介質(zhì)，主要用于可靠地去除可能在吹塑模塊中引入的污染物和灰塵。
[0011] 作為另一可選方案，由于有效性提高，可采用利用
電子束的滅菌處理。 該滅菌處理可用作主滅菌處理和次滅菌處理，或者電子束僅用于主滅菌處理，而在次滅菌處理中采用氣態(tài)介質(zhì)和/或液體介質(zhì)，這是因為在主滅菌處理中已經(jīng)獲得了很大程度上無菌的預(yù)制體。
[0012] 至少主滅菌處理應(yīng)該在清潔室環(huán)境中進行，以排除從外部引入的污染物和細菌或者使從外部引入的污染物和細菌最小化。 在清潔室環(huán)境中，可以建立比清潔室環(huán)境的上游和下游的壓力高的清潔室壓力，使得在上游或下游循環(huán)的污染物和/或細菌不能進入到清潔室環(huán)境中。
[0013] 在適當?shù)姆椒ㄗ冃椭?，至少主滅菌處理是在處理星輪處進行的，該處理星輪配置于
處理室中，該處理室包圍處理星輪并向下通向轉(zhuǎn)移區(qū)域，處理室優(yōu)選位于清潔室環(huán)境中。 這里，無菌氣流能夠被持續(xù)地引入處理室，并且優(yōu)選地經(jīng)由包圍轉(zhuǎn)移區(qū)域的廢氣箱被吹出或抽出，從而在處理室中沿上游方向和下游方向產(chǎn)生一種
鎖定效應(yīng)。 無菌氣流也可以是氣態(tài)的過氧化氫混合物。
[0014] 為了允許以相對小的努力來保持清潔室環(huán)境，以避開清潔室環(huán)境的方式將廢氣從處理室排出或抽出至外部是合適的。 因為在主滅菌處理和/或次滅菌處理中，隨著廢氣釋放可能污染環(huán)境的污染物或細菌。 因為不能確保在所有情況下例如所有的細菌能夠被立即殺死。
[0015] 在裝置的合適的實施方式中，主滅菌模塊被插入到預(yù)制體的位于從加熱裝置供給預(yù)制體的輸送裝置與裝載吹塑模塊的輸送裝置之間的輸送路徑中，而次滅菌模塊被插入到容器的位于從吹塑模塊移出容器的輸送裝置與將容器移入灌裝機的輸送裝置之間的輸送路徑中。這里，由于這兩個模塊，預(yù)制體和容器的輸送路徑僅需要略微延伸。 這些模塊被裝配于加工流，而不會產(chǎn)生任何問題。
[0016] 適當?shù)兀鳒缇K和/或次滅菌模塊均包括處理星輪、以及氣態(tài)或液體介質(zhì)的供給和施加部件(A)或者用于將電子束施加于預(yù)制體或容器的至少一個電子束發(fā)生器。 處理星輪能夠提供相對長的處理部以有效地處理預(yù)制體或容器，同時，處理星輪僅需要很少的空間。 這里，包圍處理星輪的室、例如處理室可以被保持得小，并且至少包括較高濃度的氣態(tài)介質(zhì)以排除偶然進入處理星輪的污染物和/或細菌。
[0017] 適當?shù)?，處理星輪被配置于處理室，該處理室具?a href='/zhuanli/list-13987-1.html' target='_blank'>覆蓋供給-排出過渡區(qū)域的廢氣箱，處理室被連接至
通風(fēng)源。在滅菌處理中，處理室形成有效的遮蔽。 如果具有廢氣箱的處理室優(yōu)選地被配置于例如吹塑模塊或灌裝機所處的清潔室環(huán)境中，則可以進一步減小雜質(zhì)或細菌進入處理室的風(fēng)險。 由于灌裝過程的高衛(wèi)生要求以及吹塑模塊自身的高衛(wèi)生要求，清潔室環(huán)境是適當?shù)摹?/div>
[0018] 在結(jié)構(gòu)簡單的適合的實施方式中，廢氣箱設(shè)置有可調(diào)節(jié)的廢氣
閥，優(yōu)選為片狀閥(?ap valve)，并且廢氣箱優(yōu)選被連接至廢氣排出部，該廢氣排出部以避開處理室的清潔室環(huán)境的方式通向外部。 廢氣閥允許根據(jù)加工流精確地、甚至不同選擇地調(diào)節(jié)各個廢氣流，以允許處理室的上游和下游的壓力條件。 廢氣排出部將清潔室環(huán)境中的污染物從內(nèi)部排出。 甚至可以提供從處理室和/或清潔室環(huán)境的廢氣的抽出，以確保在處理室和清潔室環(huán)境中具體地限定氣流和壓力條件。
[0019] 在結(jié)構(gòu)簡單的實施方式中，氣態(tài)和/或液體介質(zhì)的施加部件均包括一個鐘體(bell body)和中央
噴嘴，該鐘體在底側(cè)開口并且被配置在處理星輪處，該鐘體包括用于預(yù)制體或容器的外部處理的內(nèi)部
擋板表面，中央噴嘴包括被配置成相對于預(yù)制體的或容器的軸線向側(cè)面傾斜的噴嘴口。 傾斜配置的噴嘴口將介質(zhì)橫向引入預(yù)制體或容器的內(nèi)壁，因此整個內(nèi)壁被相對快且強烈地撞擊，并且由此得到的氣流也能夠相對自由地從嘴部出來，在從預(yù)制體或容器的嘴部出來后，氣流在鐘體的擋板表面處返回并且從外部到達嘴部區(qū)域以相應(yīng)地作用于該嘴部區(qū)域。 也可以將噴嘴設(shè)計成使得氣流以循環(huán)的方式被引入預(yù)制體或容器。
[0020] 在適合的實施方式中，鐘體能夠被配置于處理星輪的升降控制裝置處，以使鐘體相對于預(yù)制體或容器的固定部升降，一方面能夠盡可能強烈地進行預(yù)制體的滅菌處理，另一方面不會影響分別在接受和排出預(yù)制體或容器的過程中的操作。
[0021] 以結(jié)構(gòu)簡單的方式，鐘體在次滅菌模塊的處理星輪處與用于容器的固定部對準，并且鐘體被固定地安裝，使得在
定位于固定部的容器的嘴部與鐘體的底側(cè)和噴嘴口之間形成操作間隙。 盡管不需要任何升降控制裝置，該操作間隙也允許僅橫向地接受和排出容器而不與鐘體發(fā)生任何碰撞，這大大簡化了處理星輪的構(gòu)造和控制。 另外，在次滅菌模塊中，沒有像過去一樣需要可選地具有升降控制器或擋板裝置的吹出星輪，利用鐘體和噴嘴，能夠可靠地排出殘留物。
[0022] 然而，為了能夠可靠地控制容器的排出，在另一實施方式中，固定部可以是作用于容器的
支撐環(huán)的下方的夾持器，該固定部在次滅菌處理中確保將容器保持于處理星輪。 作為預(yù)防措施，在從處理星輪至隨后的輸送裝置的至少一個排出區(qū)域中，在處理星輪處的夾持器的運動路徑的下方或上方安裝固定的導(dǎo)出指，該導(dǎo)出指相對于保持在夾持器中的容器的運動路徑斜向地延伸，并且該導(dǎo)出指在導(dǎo)出動作時能夠抵靠容器的遠離輸送裝置的一側(cè)。導(dǎo)出指允
許可靠的容器轉(zhuǎn)移操作，而不必再次觸碰容器。 此外，導(dǎo)出指也可以被類似地應(yīng)用于主滅菌模塊中的處理星輪，以避免在預(yù)制體的排出過程中觸碰涉及污染和/或
變形風(fēng)險的輔助部件。
[0023] 在另一適合的實施方式中，主滅菌模塊中的鐘體在開口底側(cè)包括多個窄的支承桿，或者以開口底側(cè)位于可更換地安裝于處理星輪的板上的方式安裝鐘體，該板包括支承桿，并且在支承桿之間限定通往鐘體的擋板表面的較寬的交叉流動通道。 因此，支承桿不阻礙
流體的變向，其中該變向是預(yù)制體的外部處理所期望的，而且支承桿允許只要支承桿停留在嘴部上就在固定部穩(wěn)定地夾持預(yù)制體。 適當?shù)?，支承桿從周緣向噴嘴逐漸向內(nèi)退，使得噴嘴口或噴嘴的一部分相對于支承桿向下延伸。 通過支承桿的該傾斜配置，鐘體能夠被足夠深的定位以沿下降方向夾持預(yù)制體的嘴部，并且在擋板表面處變向的流體至少完全地作用于預(yù)制體的外側(cè)的上部區(qū)域，同時噴嘴通
過噴嘴口穿透預(yù)制體的嘴部。
[0024] 這樣，在處理星輪處，鐘體與預(yù)制體的固定協(xié)作，這在從供給輸送裝置的轉(zhuǎn)移和處理中是特別適合的，位于處理星輪處的用于預(yù)制體的固定部僅必須包括用于預(yù)制體的支撐環(huán)的支撐指，支撐環(huán)被放置在該支撐指上，而鐘體被放置在嘴部上并且將支撐環(huán)按壓到支撐指上。 支撐指被適當?shù)嘏渲迷谔幚硇禽喌目筛鼡Q的支撐板處，以使用于更換至另一預(yù)制體的更換時間盡可能得短。 在支撐指之間優(yōu)選限定通往下方的間隙區(qū)域的交叉流動通道，從而作用于預(yù)制體的至少嘴部區(qū)域的外表面的變向氣流能夠有效地起作用。 用于使鐘體相對于處理星輪處的固定部移動的升降控制裝置適當?shù)匕ㄖ午婓w的至少一個引導(dǎo)元件，該引導(dǎo)元件在處理星輪中被可移動地引導(dǎo)，并且可借助于
凸輪控制器經(jīng)由導(dǎo)輥使該引導(dǎo)元件移動。 凸輪控制器以如下方式適當?shù)刈饔茫寒斀邮茴A(yù)制體時，下降的鐘體將預(yù)制體固定在固定部上，但是鐘體在預(yù)制體被排出之前已經(jīng)被升高，于是可選地利用已經(jīng)提及的導(dǎo)出指的協(xié)作，能夠容易地轉(zhuǎn)移預(yù)制體。 由預(yù)制體固定
彈簧能夠特別容易地實現(xiàn)預(yù)制體的固定，該預(yù)制體固定彈簧沿鐘體到預(yù)制體的嘴部的下降方向作用于引導(dǎo)元件或?qū)л仭?這是被升降控制部件釋放的特別簡單的固定機構(gòu)。
[0025] 另外，為了裝置的操作風(fēng)險最小化，至少能量束發(fā)生器、或者甚至整個模塊被配置于利用能量束工作的主滅菌模塊和/或次滅菌模塊中的
輻射防護曲徑入口(shielded radiation maze)中是合適的。
附圖說明
[0026] 將參照附圖說明本發(fā)明的主題的實施方式。 在附圖中：
[0027] 圖1示出了用于吹塑成型和灌裝由熱塑性材料制成的預(yù)制體的容器的裝置的第一實施方式的示意性平面圖，
[0028] 圖2示出了裝置的另一實施方式的示意性平面圖，
[0029] 圖3示出了裝置的另一實施方式的示意性平面圖，
[0030] 圖4示出了圖1至圖3的裝置的一部分的示意性平面圖，用于說明滅菌處理中的通風(fēng)原理，
[0031] 圖5示出了圖1至圖4的細節(jié)的立體仰視圖，
[0032] 圖6示出了另一細節(jié)的立體圖，
[0033] 圖7示出了另一細節(jié)的示意性截面圖，
[0034] 圖8示出了例如圖5或圖7的示意性平面圖，以及
[0035] 圖9示出了作為圖6的可選方案的另一細節(jié)的立體圖。
具體實施方式
[0036] 圖1示出了用于吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝無菌容器T的裝置V。 由熱塑性材料制成的預(yù)制體經(jīng)由輸送星輪1被供給至加熱裝置H。在經(jīng)由輸送星輪3使預(yù)制體隨后進入對預(yù)制體進行主滅菌操作的主滅菌模塊HS之前，由該輸送星輪1將預(yù)制體引入到加熱裝置H中，并且在加熱裝置H中使預(yù)制體具有預(yù)定的溫度輪廓。 主滅菌模塊HS被插入到輸送裝置3和吹塑模塊B的另一輸送裝置4之間，在該吹塑模塊B中，吹塑旋轉(zhuǎn)體5配置有未示出的吹塑模。 如吹塑模塊B的實輪廓線所示，吹塑模塊B，至少吹塑旋轉(zhuǎn)體5的區(qū)域，可以處于清潔室環(huán)境內(nèi)。 吹塑成型或拉伸吹塑成型的容器T經(jīng)由另一輸送裝置6被轉(zhuǎn)移至輸送裝置3，并且使該容器T進入次滅菌模塊NS，該次滅菌模塊NS被插入到輸送裝置3和灌裝機F之間。 另一輸送裝置7或者沖洗和/或干燥站可以跟隨該次滅菌模塊NS，其中無菌容器從該另一輸送裝置7或者沖洗和/或干燥站經(jīng)由輸送裝置3被送至灌裝機F。在灌裝機F的出口，另一輸送裝置3使灌裝后的容器進入與排出輸送裝置8相連的密封機C，在該密封機C中對容器T施加無菌封閉。 在主滅菌模塊HS中包括一個處理星輪E1，在次滅菌模塊NS中包括一個處理星輪E2。 例如在圖1的實施方式中，利用在高溫和壓力下施加且由于熱預(yù)處理而成為氣態(tài)的介質(zhì)G進行模塊HS中的主滅菌處理和模塊NS中的次滅菌處理，其中介質(zhì)G例如是過氧化氫。 作為可選方案，附圖標記L表示對于次滅菌模塊NS也可以采
用例如基于過乙酸的液體介質(zhì)的次滅菌處理。
裝置V的一部分也可以是連接至供給線路(未示出)的閥配置9，該閥配置9使各自采用的介質(zhì)G或L處于壓力下，并且供給管道10從該閥配置9通向模塊HS和NS。
[0037] 圖2的裝置的實施方式與圖1的裝置的不同之處在于：利用均用于產(chǎn)生能量束的至少一個發(fā)生器11，主滅菌模塊HS和次滅菌模塊NS利用能量束R進行預(yù)制體的滅菌處理和容器的滅菌處理，其中至少一個發(fā)生器11用于產(chǎn)生能量束，該至少一個發(fā)生器11被適當?shù)嘏渲迷谄帘蔚妮椛溱?shielded radiation trap)Q中。
[0038] 在圖2的實施方式的未示出的可選方案中，圖1的利用氣態(tài)介質(zhì)G進行操作的次滅菌模塊NS可以被設(shè)置為次滅菌模塊NS。
[0039] 圖3的裝置V的實施方式與前面的實施方式的不同之處在于：吹塑模塊B和次滅菌模塊NS之間的輸送部以及通向灌裝機F的輸送部更長。 在加熱裝置H和吹塑模塊B之間，具有處理星輪E1的主滅菌模塊利用至少一個發(fā)生器11的能量束R進行操作?？赡艿?，發(fā)生器11被設(shè)置成靠近處理星輪E1或者與處理星輪E1形成一體。 圖3的次滅菌模塊NS利用液體介質(zhì)L(利用高壓清
水(rinsing))進行操作，為此，次滅菌模塊NS包括較大的處理星輪E2和用于使容器轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動裝置12。 在密封機C的前面設(shè)置分離室
13，在分離室13中已經(jīng)保持有可能無菌
外殼(enclosure)。在次滅菌模塊中進行處理的液體介質(zhì)L例如是過乙酸。 次滅菌模塊NS例如用作容器清洗機。
[0040] 在圖1至圖3的裝置V的實施方式中，模塊HS、NS中使用的所有處理星輪E1、E2實際上可以只在轉(zhuǎn)動平面內(nèi)操作而沒有升降控制。
[0041] 在作為可選方案的未示出的實施方式中，圖1的裝置V可以包括圖3的利用液體介質(zhì)L的次滅菌模塊NS，來代替利用氣態(tài)介質(zhì)G的次滅菌模塊NS。 另外，可以進行如下構(gòu)思：在一個處理模塊HS具有兩個或多個處理星輪E1，在另一個處理模塊NS中具有兩個或多個處理星輪E2。
[0042] 圖4說明了例如用于圖1的裝置的實施方式的主滅菌模塊HS(或者作為可選方案或者另外，次滅菌模塊NS)的
通風(fēng)系統(tǒng)，其中利用例如過氧化氫等氣態(tài)介質(zhì)G進行消毒。 處理星輪E1被配置在處理室13中，該處理室13包圍處理星輪E1，處理室13在從用于預(yù)制體P(或容器T)的輸送裝置3到產(chǎn)生鎖狀效果(lock-like effect)的輸送裝置3或4的過渡區(qū)域包括廢氣箱15。 處理室13被連接至源14，該源14例如是被持續(xù)地導(dǎo)入到處理室13中的無菌空氣。 處理室13位于由虛線示出的清潔室環(huán)境16中，抽氣系統(tǒng)18可以被連接至該清潔室環(huán)境16。廢氣排出部17避開清潔室環(huán)境16從廢氣箱15被引導(dǎo)至外部?？蛇x地，可以設(shè)置抽氣裝置或者閥部件，從而能夠單獨地控制廢氣流。 作為可選方案，在17’處示出了從廢氣箱15至清潔室環(huán)境16的廢氣管。
[0043] 清潔室環(huán)境16可以屬于吹塑模塊B并且至少包圍吹塑旋轉(zhuǎn)體5。 可以由例如鼓風(fēng)機將過濾后的清潔空氣或者甚至是無菌空氣導(dǎo)入到清潔室環(huán)境16。如果在處理室13中采用
腐蝕性介質(zhì)，由于例如吹塑旋轉(zhuǎn)體的部件可能會被損壞，所以該腐蝕性介質(zhì)不應(yīng)該到達清潔室環(huán)境16，因此經(jīng)由廢氣排出部17的抽氣是推薦的?？梢詫U氣抽至外部的廢氣箱15起到這個作用。 為了防止處理室13中的交叉流動，可以例如經(jīng)由可調(diào)節(jié)的片狀閥(未示出)適當?shù)乜刂茝U氣流。
[0044] 例如，借助噴嘴將清潔空氣導(dǎo)入到處理室13中(例如，80Nm3/h)。 經(jīng)由廢氣排出部17的抽氣被調(diào)節(jié)成使得在處理室13中形成
真空。 由此可以在清潔室環(huán)境16中調(diào)節(jié)所產(chǎn)生的過壓(overpressure)。
[0045] 如上所述，類似的通風(fēng)原理也可以應(yīng)用于次滅菌模塊NS，于是，可經(jīng)由通道到達的灌裝機F的另一清潔室可以緊跟清潔室環(huán)境16，由于灌裝過程中的衛(wèi)生要求比吹塑模塊B中的衛(wèi)生要求高，因此，另一清潔室內(nèi)的壓力較高，例如為20Pa。
[0046] 圖5示出了例如圖1的裝置V的主滅菌模塊HS的處理星輪E1的細節(jié)。 在能夠被繞例如豎直軸轉(zhuǎn)動驅(qū)動的處理星輪E1中，安裝有環(huán)狀支撐星輪19，該環(huán)狀支撐星輪19包括沿外周等距離布置的用于施加氣態(tài)介質(zhì)G的施加部件A。 各施加部件A包括大致垂直布置的噴嘴20，噴嘴20大致經(jīng)由處理星輪E1上方的中央分配器而連接至圖1的閥部件9的連接管道10。 噴嘴20的噴嘴口21的軸線X基本上被定向在各預(yù)制體P的固定部32的中心，然而其相對于預(yù)制體P的軸線Y橫向傾斜。 軸線X和軸線Y成非常小的銳角α。 噴嘴20配置在鐘體(bell body)22中，該鐘體22的開口底側(cè)位于支撐板24上，該支撐板24被固定于至少一個引導(dǎo)元件27，噴嘴20可適當?shù)馗鼡Q。 支撐板24(或者鐘體22的開口底側(cè))包括沿周向分布的多個窄的支承桿25，在支承桿25之間限定寬的交叉流動通道50，該通道50通往鐘體22的內(nèi)部和設(shè)置于鐘體內(nèi)部的擋板表面23。 擋板表面的形狀是例如與圖7對應(yīng)的凹圓形，以使進入交叉流動通道50的氣流繞噴嘴20的中心改變方向，并使其再次通過交叉流動通道50向下進入預(yù)制體P的嘴部區(qū)域。適當?shù)?，支承桿25的底側(cè)26逐步向上傾斜地向內(nèi)退到鐘體22的內(nèi)部，使得噴嘴20或噴嘴口21分別從支承桿25上突出。 當鐘體22的底側(cè)的外徑顯著大于預(yù)制體P的嘴部37的外徑時，鐘體22可以以使噴嘴口21稍微進入嘴部37的方式被放置在嘴部37上，并且交叉流動通道
50的外緣位于嘴部37的平面的下方。
[0047] 引導(dǎo)元件27(適當?shù)厥且粚σ龑?dǎo)元件27)在位于支撐星輪19的底側(cè)的滑動引導(dǎo)部28中被可垂直移動地引導(dǎo)，并且引導(dǎo)元件27在下端支承導(dǎo)輥(jockey roller)29，導(dǎo)輥29在處理星輪E1的相對轉(zhuǎn)動中與由虛線表示的凸輪控制部30
相位(phase-wise)協(xié)作，從而使鐘體22如圖所示地下降，或者將鐘體調(diào)整到從嘴部37升高的
位置。 適當?shù)?，彈?1沿鐘體22向嘴部37下降的方向作用于引導(dǎo)元件27或?qū)л?9，以在固定部32中夾持各預(yù)制體P。 固定部32例如被設(shè)置在可更換地安裝于支撐星輪19的板33中，并且固定部32被實現(xiàn)為具有多個支撐指34的嘴狀，在多個支撐指之間限定通向位于下方的間隙區(qū)域的寬闊的交叉流動通道35。
[0048] 利用嘴部37下方的支撐環(huán)36將預(yù)制體P停留在支撐指34上，并且由被彈簧31加壓的鐘體22以使預(yù)制體P與鐘體22大致同心的方式夾持預(yù)制體P，同時氣態(tài)介質(zhì)G經(jīng)由噴嘴20被吹入預(yù)制體中。
[0049] 由于噴嘴口21相對于預(yù)制體P的軸線Y的傾斜位置，氣態(tài)介質(zhì)G在預(yù)制體P的內(nèi)壁上劇烈地并且以氣流螺旋行進的方式循環(huán)，在氣態(tài)介質(zhì)G離開嘴部37通往頂部之前，氣態(tài)介質(zhì)G在擋板表面23處改變方向，然后作用于預(yù)制體P至支撐環(huán)36或者比支撐環(huán)36更下方的外部區(qū)域。
[0050] 圖6示出了例如如果采用氣態(tài)介質(zhì)G(可用熱的清水替換)，用于次滅菌模塊的處理星輪E2的類似結(jié)構(gòu)。 這里，鐘體22經(jīng)由支撐柱40被固定地安裝于板33’，該板能夠被可更換地安裝于處理星輪E2。 支撐板33’處的夾持器39被用作容器T用的固定部32’。 在鐘體22的頂部，配置有用于連接管道10的連接部38。
[0051] 在圖7中，處理星輪E2被配置于處理室13中，在處理室13中，處理星輪E2繞所示出的處理星輪的中
心軸線轉(zhuǎn)動。 鐘體22以如下方式被安裝于支撐柱40：鐘體22的開口底側(cè)和中央噴嘴20的傾斜的噴嘴口21與容器T的嘴部37(具有嘴部37和支撐環(huán)36的嘴部區(qū)域相對于預(yù)制體P的設(shè)計不發(fā)生顯著變化)相對，并且二者之間具有僅利用大致橫向運動(箭頭43)將容器T導(dǎo)入夾持器39或者從夾持器39退出容器T的操作距離42。圖7示出了由噴嘴20和傾斜的噴嘴口21引入的氣態(tài)介質(zhì)G的氣流41的路線。 氣流首先沿著容器T的內(nèi)壁和底部在一側(cè)行進，在氣流離開嘴部37通往頂部之前，氣流在鐘體內(nèi)的擋板表面23處改變方向，使得氣流也作用于容器T的嘴部區(qū)域的外部區(qū)域。
[0052] 為了防止干擾容器T至輸送裝置(例如輸送裝置3)的轉(zhuǎn)移，可以在轉(zhuǎn)移區(qū)域中設(shè)置導(dǎo)出指44(也參見圖8)，在圖7中，該導(dǎo)出指44在支撐環(huán)36或者夾持器39的上方作用于容器T，以沿箭頭43的方向轉(zhuǎn)移容器T。 作為可選方案(未示出)，導(dǎo)出指可以被配置在夾持器39的下方。
[0053] 根據(jù)圖8，導(dǎo)出指44被固定地配置于次滅菌模塊NS中，并且位于從處理星輪E2至輸送裝置3的轉(zhuǎn)移區(qū)域，使得導(dǎo)出指44作用于容器T的遠離輸送裝置3的背側(cè)，并且將容器T移出夾持器39，例如進入輸送裝置3的夾持器39。 導(dǎo)出指44被固定地配置于支承部45，并且包括相對于處理星輪E2處的容器T的運動路徑斜向配置的導(dǎo)出面46。
[0054] 導(dǎo)出指44也可以被用于主滅菌模塊HS的處理星輪E1，從而無需與其它部件發(fā)生有害接觸就能非?？煽康剞D(zhuǎn)移預(yù)制體P。 導(dǎo)出指44僅是由于安全因素的適當選擇，但不是必需的。
[0055] 圖9最后示出了次滅菌模塊NS的處理星輪E2的細節(jié)變化。 這里，可借助于升降控制器47、48、29’、31’將鐘體22調(diào)節(jié)成可相對于夾持器39升降。 噴嘴20明顯地從鐘體22突出。 升降控制器包括安裝有鐘體22和噴嘴20的臂47、垂直引導(dǎo)元件48以及用于與凸輪控制器協(xié)作的導(dǎo)輥29’?？蛇x地，彈簧31’沿下降方向作用于升降控制器以將下降后的鐘體22按壓在容器T的嘴部上。 引導(dǎo)元件48可以在板33’的滑動引導(dǎo)部49中移動。 圖9的實施方式可以被認為是圖6的替代實施方式，并且也可以連同圖7的導(dǎo)出指44一起使用。
