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首頁 / 國際專利分類庫 / 化學(xué);冶金 / 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆(通過金屬化紡織品的入D06M11/83;通過局部金屬化來裝飾紡織品的入D06Q1/04);表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆(對于特定用途,見相關(guān)位置,例如用于制造電阻器的入H01C17/06);金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制(通過電解或電泳對金屬的金屬表面或涂層進(jìn)行處理的入C25D,C25F)
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序號 專利名 申請?zhí)?/th> 申請日 公開（公告）號 公開（公告）日 發(fā)明人
1 蒸鍍掩模 CN201721538587.7 2017-11-16 CN207498456U 2018-06-15 池永知加雄
本實用新型提供蒸鍍掩模，在使蒸鍍掩模緊密貼合于被蒸鍍基板時，能夠抑制在該蒸鍍掩模上產(chǎn)生皺褶。蒸鍍掩模(20)具備：構(gòu)成面對被蒸鍍基板的一側(cè)的面的第1面(20a)；和構(gòu)成第1面(20a)的相反側(cè)的面的第2面(20b)，蒸鍍掩模具有形成有多個貫通孔(25)的有效區(qū)域(22)，具有長度方向(dL)，并沿長度方向(dL)排列有1個以上的有效區(qū)域(22)，且翹曲成至少在長度方向(dL)的中央部的與長度方向(dL)垂直的截面中凸向第1面(20a)側(cè)。(ESM)同樣的發(fā)明創(chuàng)造已同日申請發(fā)明專利
2 具有耐腐蝕內(nèi)部的閥體和其制造裝置 CN201720517031.3 2017-05-10 CN207447352U 2018-06-05 T·K·賴; C·S·祥
本實用新型提供了一種具有耐腐蝕內(nèi)部的閥體和其制造裝置。該具有耐腐蝕內(nèi)部的閥體，包括：使用鑄造過程由第一材料形成的主體部分；以及第二材料層，所述第二材料層在所述鑄造過程期間形成在所述主體部分的一個或多個內(nèi)表面上，所述第二材料具有比所述第一材料更高的耐腐蝕性。通過實施本實用新型的技術(shù)方案，能夠使控制閥部件的腐蝕最小化，降低了維修或更換的成本。(ESM)同樣的發(fā)明創(chuàng)造已同日申請發(fā)明專利
3 氣體分配組件 CN201720975030.3 2015-04-17 CN207376114U 2018-05-18 J·約德伏斯基; K·格里芬
本實用新型公開了一種氣體分配組件。氣體分配組件可以包括輸出面和至少一個傳感器，所述輸出面具有用于引導(dǎo)氣流的多個細(xì)長的氣體端口，所述至少一個傳感器經(jīng)定位以在測量期間接觸基座組件。
4 掩膜板 CN201720932459.4 2017-07-28 CN207009484U 2018-02-13 安樂平; 李高敏; 郝力強(qiáng); 劉宏俊
一種掩膜板，用于基板上OLED器件的制備，所述基板上設(shè)置有器件區(qū)和設(shè)置于所述器件區(qū)至少一側(cè)的電極引線區(qū)，所述器件區(qū)用于設(shè)置所述OLED器件，所述電極引線區(qū)用于設(shè)置與所述OLED器件的電極電連接的電極引線層，所述掩膜板沿其厚度方向設(shè)置有相互連接的第一開口和第二開口，所述第一開口與所述器件區(qū)相對應(yīng)，所述第二開口大于所述第一開口，且與所述第一開口共同形成臺階面，所述臺階面能夠覆蓋所述電極引線區(qū)，所述第二開口的深度大于所述電極引線層的厚度。本實用新型提供的掩膜板，不會蹭傷電極引線層，大大提高了OLED制備的良率。
5 多室化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CN201720363485.X 2016-08-31 CN206646165U 2017-11-17 喬治·帕帕索利奧蒂斯; 米格爾·索爾達(dá)娜; 布雷特·斯諾登; 尤利·拉什科夫斯基; 邁克爾·佩奇
本實用新型公開了一種化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。所述化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)具有多個反應(yīng)室以在各個所述反應(yīng)室內(nèi)的晶片上外延層生長中進(jìn)行獨(dú)立地操作，以減少加工時間且同時保持制造高性能半導(dǎo)體裝置所必需的質(zhì)量。
6 基板處理腔室 CN201590000446.2 2015-04-17 CN206516610U 2017-09-22 J·約德伏斯基; K·格里芬
本實用新型描述了基板處理腔室。本文描述了用于處理半導(dǎo)體晶片的裝置，其中傳感器(例如，接觸式熱電偶)定位在氣體分配組件中，在沉積之前、期間和/或之后測量溫度和/或膜參數(shù)。
7 用層堆疊涂布柔性基板的沉積設(shè)備 CN201620800779.X 2016-07-27 CN206204411U 2017-05-31 T·德皮施; S·海因; N·莫里森; R·庫克拉; C·克森; S·施拉弗; S·勞倫斯; D·瓦格納; V·邁特; V·哈克; U·赫爾曼斯; B·斯狄克賽爾-維斯; W·溫丹姆斯; J·烏爾里奇
描述一種用層堆疊涂布柔性基板(10)的沉積設(shè)備(100)。所述沉積設(shè)備包含：第一卷筒腔室(110)，配置用于容納存儲卷筒，所述存儲卷筒用于提供柔性基板；第一沉積腔室(120)，布置在第一卷筒腔室下游且包含第一涂布滾筒(122)，所述第一涂布滾筒被配置用于引導(dǎo)柔性基板經(jīng)過第一組多個沉積單元(121)；第二沉積腔室(140)，布置在第一沉積腔室(120)下游且包含第二涂布滾筒(142)，所述第二涂布滾筒被配置用于引導(dǎo)柔性基板經(jīng)過第二組多個沉積單元(141)；第二卷筒腔室，布置在第二沉積腔室(140)下游且被配置用于容納纏繞卷筒，所述纏繞卷筒用于在沉積后在此纏繞卷筒上纏繞柔性基板；以及輥組件，配置成將柔性基板(10)沿部分凸形和部分凹形的基板傳送路徑從第一卷筒腔室傳送到第二卷筒腔室。
8 多室化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CN201621025123.1 2016-08-31 CN206127419U 2017-04-26 喬治·帕帕索利奧蒂斯; 米格爾·索爾達(dá)娜; 布雷特·斯諾登; 尤利·拉什科夫斯基; 邁克爾·佩奇
本實用新型公開了一種化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。所述化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)具有多個反應(yīng)室以在各個所述反應(yīng)室內(nèi)的晶片上外延層生長中進(jìn)行獨(dú)立地操作，以減少加工時間且同時保持制造高性能半導(dǎo)體裝置所必需的質(zhì)量。
9 一種用于PECVD設(shè)備內(nèi)的石墨舟傳送機(jī)構(gòu) CN201620938505.7 2016-08-25 CN206052147U 2017-03-29 肖岳南; 張勇
本實用新型公開了一種用于PECVD設(shè)備內(nèi)的石墨舟傳送機(jī)構(gòu)，包括固定于PECVD設(shè)備內(nèi)一側(cè)的豎直向上的立柱，固定于PECVD設(shè)備內(nèi)另一側(cè)的推舟機(jī)構(gòu)以及固定于PECVD設(shè)備底部的側(cè)向出舟機(jī)構(gòu)，立柱上由上至下固定有多個間隔開的暫存區(qū)，該暫存區(qū)具有豎直方向的暫存區(qū)中心線，推舟機(jī)構(gòu)上水平伸出一SIC槳，SIC槳與暫存區(qū)之間設(shè)有升降通道區(qū)，立柱上還設(shè)有一沿該立柱上下運(yùn)動的機(jī)械手，手抓取SIC槳上的石墨舟后傳輸?shù)缴低ǖ绤^(qū)內(nèi)，側(cè)向出舟機(jī)構(gòu)固定于PECVD設(shè)備底部的位置位于暫存區(qū)的正下方。該石墨舟傳送機(jī)構(gòu)，在SIC槳的取放舟位置較低時，機(jī)械手在抓取SIC槳上的石墨舟后傳輸?shù)缴低ǖ绤^(qū)時不會與側(cè)向出舟機(jī)構(gòu)上傳輸?shù)氖郯l(fā)生碰撞。
10 氧化物蝕刻選擇性系統(tǒng) CN201620844868.4 2016-08-05 CN205984911U 2017-02-22 L·徐; Z·陳; A·王; S·T·恩古耶
公開了氧化物蝕刻選擇性系統(tǒng)。揭示了一種基板處理系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：第一氣體入口；基座，配置成支撐基板；噴淋頭，定位在所述第一氣體入口與所述基座之間，所述噴淋頭包括限定有第一多個開口的導(dǎo)電板；隔板，定位在所述基座與所述噴淋頭之間，所述隔板限定第二多個開口；第二氣體入口，定位在所述噴淋頭處，或定位在所述噴淋頭與所述隔板之間；等離子體區(qū)域，限定在所述第一氣體入口與所述噴淋頭之間；基本無等離子體的區(qū)域，限定在所述噴淋頭與所述隔板之間；基板處理區(qū)域，限定在所述隔板與所述基座之間；以及電源，配置成引燃所述等離子體區(qū)域中的等離子體放電。
11 掩膜板和蒸鍍裝置 CN201620851904.X 2016-08-08 CN205856592U 2017-01-04 徐鵬; 喬永康; 潘晟愷; 劉杰
一種掩膜板和蒸鍍裝置，該掩膜板包括框架和設(shè)置在所述框架內(nèi)側(cè)的第一掩膜條，其中，所述框架包括外框和內(nèi)框，所述外框位于外側(cè)且具有第一平面，所述內(nèi)框位于內(nèi)側(cè)且具有第二平面，所述第一平面高于所述第二平面由此形成臺階；所述第一掩膜條通過兩端固定在所述外框上且在所述外框內(nèi)沿所述框架的一側(cè)邊延伸，所述第一掩膜條在所述第二平面上的正投影與所述內(nèi)框在所述側(cè)邊至少部分交疊。該掩膜板通過改變框架和固定在其上的掩膜條的設(shè)計，有效解決了玻璃基板被刮傷的問題，有效提升了后續(xù)產(chǎn)品的良率和壽命。
12 一種掩膜板 CN201620661367.2 2016-06-29 CN205688000U 2016-11-16 白珊珊
本實用新型提供一種掩膜板，包括疊層設(shè)置的第一掩膜板和第二掩膜板，所述第一掩膜板上設(shè)置有第一開口，所述第一開口與目標(biāo)顯示面板相對應(yīng)；所述第二掩膜板上設(shè)置有第二開口區(qū)域，所述第二開口區(qū)域包括多個第二開口，且第二開口區(qū)域覆蓋所述至少一個第一開口；由于制造第一掩膜板只需保證第一開口的形狀和大小與目標(biāo)顯示面板的大小和形狀相同即可，無需進(jìn)一步制造用于形成像素圖形的開口，因此，相對于現(xiàn)有的掩膜板來說，制造工藝簡單且制造成本低。
13 一種掩膜板 CN201620413388.2 2016-05-09 CN205576262U 2016-09-14 呂守華; 孫樸
本實用新型提供了一種掩膜板，包括多個掩膜條和安裝框架，多個掩膜條經(jīng)過拉伸后安裝于安裝框架上，每個掩膜條的掩膜單元包括有效開口區(qū)和兩個空置區(qū)，有效開口區(qū)內(nèi)設(shè)置有掩膜開口，兩個空置區(qū)分別設(shè)置在有效開口區(qū)的沿垂直于拉伸方向的兩側(cè)且靠近有效開區(qū)，空置區(qū)內(nèi)設(shè)置有空置開口，掩膜開口的輪廓形狀與空置開口的輪廓形狀不同，且二者在拉伸過程中產(chǎn)生的應(yīng)力能夠相互補(bǔ)償。本實用新型提供的掩膜板，可改善掩膜條在拉伸過程中的卷曲現(xiàn)象，從而可改善掩膜單元邊緣shadow效應(yīng)，進(jìn)而改善顯示面板在蒸鍍時出現(xiàn)邊緣混色不良的情況，從而增加產(chǎn)品良率。
14 真空室 CN201520369420.7 2015-06-01 CN204939605U 2016-01-06 馬爾科·肯內(nèi); 克里斯托夫·豪斯勒
根據(jù)不同的實施方式，真空室(100)可具有：帶有室底部(102b)和室側(cè)壁(102s)的室殼體(102)，其中，室底部(102b)向下限制室殼體(102)內(nèi)的運(yùn)輸區(qū)域(111)，且其中，室側(cè)壁(102s)側(cè)向限制室殼體(102)內(nèi)的運(yùn)輸區(qū)域(111)；運(yùn)輸系統(tǒng)(110)，用于在運(yùn)輸區(qū)域(111)中運(yùn)輸基體；室側(cè)壁(102s)中的至少一個連接開口(104)，用于將高真空泵連接到室殼體(102)，其中，該至少一個連接開口(104)部分地被設(shè)置在運(yùn)輸區(qū)域(111)之下；室底部(102b)中的至少一個槽(102a)和/或凹部(102a)，其中，該至少一個槽(102a)和/或凹部(102a)露出至少一個連接開口(104)。
15 基板載體 CN201520320644.9 2015-05-18 CN204834654U 2015-12-02 盛殊然; 張林; S·H·趙
提供了一種基板載體，該基板載體上設(shè)置有類金剛石碳涂層。所述類金剛石碳涂層可具有實質(zhì)上耐在光伏電池的制造期間執(zhí)行的常用清潔工藝(諸如，使用NF3等離子體的清潔工藝)的性質(zhì)。
16 真空處理設(shè)備及處理設(shè)備 CN201520369954.X 2015-06-01 CN204714897U 2015-10-21 約亨·克勞瑟; 斯蒂芬·萊曼
根據(jù)不同的實施方式，真空處理設(shè)備(100)可具有：轉(zhuǎn)送室(102t)，具有第一運(yùn)輸系統(tǒng)，用于在轉(zhuǎn)送室(102t)內(nèi)運(yùn)輸基體(220s)，其中，轉(zhuǎn)送室(102t)的第一運(yùn)輸系統(tǒng)具有帶有多個被驅(qū)動的運(yùn)輸滾筒(106t)的第一驅(qū)動系統(tǒng)，以及與第一驅(qū)動系統(tǒng)耦接的控制部或調(diào)節(jié)部，其被設(shè)置成將多個分批被運(yùn)輸進(jìn)入轉(zhuǎn)送室(102t)的基體匯集成基體(220s)的連續(xù)序列；至少一個與轉(zhuǎn)送室(102t)連接的處理室(202p)，用于處理基體(220s)的連續(xù)序列，其中，至少一個處理室(202p)具有第二運(yùn)輸系統(tǒng)，用于在至少一個處理室(202p)內(nèi)運(yùn)輸基體(220s)的連續(xù)序列，其中，至少一個處理室(202p)的第二運(yùn)輸系統(tǒng)具有多個被驅(qū)動的第二運(yùn)輸滾筒(106p)，其中，多個被驅(qū)動的第一運(yùn)輸滾筒(106t)和多個被驅(qū)動的第二運(yùn)輸滾筒(106p)具有相同的有效滾筒直徑(206d)。
17 真空室組件 CN201520369470.5 2015-06-01 CN204690099U 2015-10-07 約亨·克勞瑟; 斯蒂芬·萊曼
根據(jù)不同的實施方式提供一種真空室組件，其可具有：第一室殼體，其具有第一開口，用于容納第一室蓋；以及第二室殼體，其具有第二開口，用于容納第二室蓋；其中，第一室殼體的第一轉(zhuǎn)送區(qū)域鄰接第二室殼體的第二轉(zhuǎn)送區(qū)域，用于將基體從第一室殼體運(yùn)輸進(jìn)入二室殼體，或從第二室殼體運(yùn)輸進(jìn)入第一室殼體，其中，第一室殼體和第二室殼體分別具有至少一個室法蘭，用于將前級真空泵組件聯(lián)接到室殼體，其中，這樣地設(shè)置第一室蓋，即，其減小第一室殼體的內(nèi)部容積，且其中，第二室蓋具有至少一個蓋法蘭，用于將高真空泵組件連接到第二室殼體。
18 電容式觸控面板 CN201520106889.1 2015-02-13 CN204631839U 2015-09-09 李志宗; 林義哲; 賴紀(jì)光; 趙仁揚(yáng)
一種電容式觸控面板，包括基板、第一電連接層、阻隔件及第二電連接層。該第一電連接層設(shè)置于該基板，具有導(dǎo)通部位以及基底部位，且該導(dǎo)通部位不與該基底部位接觸。該阻隔件部份覆蓋于該導(dǎo)通部位上。該第二電連接層具有相互分離的二第一極板部位及一第二極板部位，且該二第一、第二極板部位至少的一者設(shè)置于該基底部位上；該二第一極板部位分別與該導(dǎo)通部位兩端連接，以形成第一感應(yīng)電極組；該第二極板部位形成第二感應(yīng)電極組；另，該第二極板部位位于該阻隔件上，不與該導(dǎo)通部位接觸，使該第二感應(yīng)電極組與該第一感應(yīng)電極組之間不連通。
19 組件保護(hù)性包膠模 CN201290000570.5 2012-03-29 CN204036746U 2014-12-24 斯科特·富拉姆; 斯基普·托馬斯·奧韋斯
用于組件保護(hù)性包膠模的技術(shù)包括，選擇性地將保護(hù)性材料大體上涂敷到被連接到框架上的一個以上的部件外面，大體上在框架、被連接到框架上的一個以上的電氣部件以及保護(hù)性材料外面形成內(nèi)模。在某些實例中，在保護(hù)性材料已經(jīng)被選擇性地涂敷之后，內(nèi)模被形成，在內(nèi)模外面大體上形成外模，且外模被配置成保護(hù)框架并提供被配置成接受圖案的表面。更進(jìn)一步地，如果在外模被形成之后所進(jìn)行的檢查期間發(fā)現(xiàn)有瑕疵，則外?？梢员辉O(shè)置成可移除。
20 一種海工用空心犧牲陽極 CN201120438680.7 2011-11-08 CN202323032U 2012-07-11 王在峰; 蘭志剛; 劉耀華
本實用新型公開了一種空心犧牲陽極。所述空心犧牲陽極包括犧牲陽極本體，所述犧牲陽極本體內(nèi)設(shè)有空心腔體。本實用新型提供的空心犧牲陽極，在其犧牲陽極本體內(nèi)部通過設(shè)置占位空心腔體以增大陽極外部徑向尺寸，從而達(dá)到增大陽極接水面積、減小陽極的接水電阻的方式提高等量陽極的發(fā)生電流。
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