一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭及裝置
專利匯可以提供一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭及裝置專利檢索，專利查詢，專利分析的服務(wù)。并且本 發(fā)明 公開了一種用于空間隔離 原子 層沉積 的模 塊 化噴頭及裝置。模塊化噴頭包括：前驅(qū)體通道組件、密封組件；前驅(qū)體通道組件包括板狀基體、前驅(qū)體通道、氣體管路；前驅(qū)體通道布置于板狀基體 正面 ， 自上而下 延伸，前驅(qū)體通道的頂端連通氣體管路；密封組件設(shè)于板狀基體正面，用于對前驅(qū)體通道進(jìn)行密封，防止前驅(qū)體泄露。本發(fā)明的模塊化噴頭，由多個部件構(gòu)成整 體模 塊，并且通過前軀體通道對噴入的氣體進(jìn)行分流和緩沖，實現(xiàn)沉積均勻，且可以根據(jù)實際需求選取任意數(shù)量進(jìn)行組合。本發(fā)明的裝置包括多個模塊化噴頭，以一定的間隔排列，分別通入 氧 化物前驅(qū)體源和金屬前驅(qū)體源，使得基底在前驅(qū)體單元下運動一個來回沉積多層 薄膜 ，大大提高了薄膜沉積效率。，下面是一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭及裝置專利的具體信息內(nèi)容。
1.一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭，用于對反應(yīng)基底進(jìn)行前驅(qū)體沉積，其特征在于，包括：前驅(qū)體通道組件、密封組件；
前驅(qū)體通道組件包括板狀基體、前驅(qū)體通道、氣體管路；前驅(qū)體通道布置于板狀基體正面，自上而下延伸，前驅(qū)體通道的頂端連通氣體管路；
密封組件設(shè)于板狀基體正面，用于對前驅(qū)體通道進(jìn)行密封，防止前驅(qū)體泄露。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭，其特征在于，前驅(qū)體通道包括多層分流通道、前驅(qū)體擴散層；多層分流通道自上而下布置，且分流通道的數(shù)量逐層增加，以將氣體管路輸入的一路前驅(qū)體均勻分流為多路；前驅(qū)體擴散層設(shè)于最下層的分流通道下方，將最下層的分流通道連通，以使前驅(qū)體在到達(dá)反應(yīng)基底前充分?jǐn)U散。
3.如權(quán)利要求2所述的一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭，其特征在于，第n層有2n個分流通道，每個分流通道在下層分流為兩路，最后一層的分流通道通過前驅(qū)體擴散層連通。
4.如權(quán)利要求3所述的一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭，其特征在于，前驅(qū)體通道包括四層分流通道和一層前驅(qū)體擴散層；
第一層至第四層分流通道自上而下布置，其中，第一層分流通道的進(jìn)氣口通過對稱設(shè)置的斜面將前驅(qū)體均勻地分為兩路；第二層分流通道和第三層分流通道具有一個最小高度，其能夠使前驅(qū)體從第三層分流通道的各個出口流出時的方向和速度一致；第四層分流通道采用錐形截面的進(jìn)出氣口，以產(chǎn)生流體壓降的變化，有利于前驅(qū)體的擴散；前驅(qū)體擴散層設(shè)于第四層分流通道下方，將第四層分流通道的各個出口連通，以使前驅(qū)體在到達(dá)反應(yīng)基底前充分?jǐn)U散。
5.如權(quán)利要求1-4任意一項所述的一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭，其特征在于，密封組件包括密封板、密封圈溝槽、密封組件加熱區(qū)、密封圈；
密封板正面朝向板狀基體正面安裝于板狀基體上；密封圈溝槽設(shè)于密封板正面，密封圈安裝于密封圈溝槽中，用于將密封板和板狀基體密封，防止前驅(qū)體泄露；密封組件加熱區(qū)設(shè)置于密封板背面對應(yīng)前驅(qū)體通道的位置；
前驅(qū)體通道組件包括前驅(qū)體通道加熱區(qū)，其設(shè)于板狀基體背面對應(yīng)前驅(qū)體通道的位置；密封組件加熱區(qū)和前驅(qū)體通道加熱區(qū)均用于對前驅(qū)體通道進(jìn)行加熱。
6.一種用于空間隔離原子層沉積的裝置，用于對反應(yīng)基底進(jìn)行前驅(qū)體沉積，其特征在于，包括權(quán)利要求1-5任意一項所述的模塊化噴頭。
7.一種用于空間隔離原子層沉積的裝置，用于對反應(yīng)基底進(jìn)行前驅(qū)體沉積，其特征在于，包括：箱體、測距傳感器、排氣組件，以及多個如權(quán)利要求1-5任意一項所述的模塊化噴頭；
箱體中部設(shè)有貫通上下表面的腔體；
模塊化噴頭沿反應(yīng)基體前進(jìn)方向排列，安裝于腔體中，且前驅(qū)體擴散層朝下設(shè)置；
測距傳感器安裝于箱體上，用于測量箱體與反應(yīng)基底之間的距離；
排氣組件密封安裝于箱體上部，其具有朝下開口的氣體容腔，罩在模塊化噴頭上方，用于在沉積反應(yīng)時充入惰性氣體，提供惰性環(huán)境。
8.如權(quán)利要求7所述的一種用于空間隔離原子層沉積的裝置，其特征在于，腔體具有兩個位于反應(yīng)基底前進(jìn)方向兩側(cè)的側(cè)壁，兩個側(cè)壁上均設(shè)有距離調(diào)節(jié)槽；距離調(diào)節(jié)槽沿反應(yīng)基底前進(jìn)方向設(shè)置，且貫通所在側(cè)壁；
每個模塊化噴頭兩側(cè)均設(shè)有調(diào)節(jié)桿，調(diào)節(jié)桿設(shè)置于兩側(cè)對應(yīng)的距離調(diào)節(jié)槽中。
9.如權(quán)利要求7所述的一種用于空間隔離原子層沉積的裝置，其特征在于，排氣組件包括箱蓋，第一惰性氣體接口、氧化物前驅(qū)體接口、金屬源前驅(qū)體接口、負(fù)壓接口、第二惰性氣體接口；
氣體容腔設(shè)置于箱蓋中；第一惰性氣體接口、氧化物前驅(qū)體接口、金屬源前驅(qū)體接口、第二惰性氣體接口、負(fù)壓接口均設(shè)于箱蓋上，且連通氣體容腔；其中，
第一惰性氣體接口、氧化物前驅(qū)體接口、金屬源前驅(qū)體接口分別連接對應(yīng)的模塊化噴頭，用于向各模塊化噴頭提供惰性氣體、氧化物前驅(qū)體，金屬源前驅(qū)體；
第二惰性氣體接口用于向氣體容腔內(nèi)通入惰性氣體，形成惰性環(huán)境；
負(fù)壓接口用于抽取反應(yīng)產(chǎn)生的殘余氣體和多余副產(chǎn)物。
10.如權(quán)利要求7-9任意一項所述的一種用于空間隔離原子層沉積的裝置，其特征在于，模塊化噴頭數(shù)量為七個，沿反應(yīng)基體前進(jìn)方向分別通入惰性氣體、氧化物前驅(qū)體、惰性氣體、金屬源前驅(qū)體、惰性氣體、氧化物前驅(qū)體、惰性氣體。
一種用于空間隔離原子層沉積的模塊化噴頭及裝置
技術(shù)領(lǐng)域
背景技術(shù)
發(fā)明內(nèi)容
具體實施方式
前驅(qū)體擴散層E保證一定的高度，使得前驅(qū)體在到達(dá)反應(yīng)基底前在垂直方向上進(jìn)行充分?jǐn)U散，保證到達(dá)反應(yīng)基底的前驅(qū)體分布是均勻的。圖3(a)、3(b)為密封組件12的結(jié)構(gòu)示意圖，其主要包括密封層121、密封圈溝槽122、密封組件加熱區(qū)123，密封圈溝槽122是根據(jù)選擇的密封圈型號按照標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行設(shè)計加工。
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