一種電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置
專利匯可以提供一種電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置專利檢索，專利查詢，專利分析的服務(wù)。并且一種 電子 束 蒸發(fā) 鍍 膜 機鍍膜修正裝置，包括固定修正裝置Ⅰ、固定修正裝置Ⅱ、活動修正裝置、1個蒸發(fā)源、4個 鹵素?zé)? 、1個離子源和1個電子槍；所述1個蒸發(fā)源、4個鹵素?zé)簟?個離子源在同一個分度圓上，所述4個鹵素?zé)舴譃閮山M，沿中心 位置 兩側(cè)對稱；蒸發(fā)源位于爐體中心對稱位置；離子源位于爐體左側(cè)；電子槍位于爐體右側(cè)；固定修正裝置Ⅰ位于左側(cè)兩個鹵素?zé)糁虚g位置，安裝在爐體內(nèi)壁上；固定修正裝置Ⅱ位于右側(cè)鹵素?zé)襞c電子槍中間位置，并安裝在爐體內(nèi)壁上；固定修正裝置Ⅰ與固定修正裝置Ⅱ安裝高度一致；活動修正裝置位于爐體右側(cè)，位于電子槍上方。本 發(fā)明 具有結(jié)構(gòu)簡單，修正裝置數(shù)量少、效果好等優(yōu)點。，下面是一種電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置專利的具體信息內(nèi)容。
1.一種電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置，其特征在于：包括固定修正裝置Ⅰ、固定修正裝置Ⅱ、活動修正裝置、1個蒸發(fā)源、4個鹵素?zé)?/a>、1個離子源和1個電子槍；
所述1個蒸發(fā)源、4個鹵素?zé)簟?個離子源在同一個分度圓上，所述4個鹵素?zé)舴譃閮山M，沿中心位置兩側(cè)對稱；所述蒸發(fā)源位于爐體中心對稱位置；所述離子源位于爐體左側(cè)；所述電子槍位于爐體右側(cè)；
所述固定修正裝置Ⅰ位于左側(cè)兩個鹵素?zé)糁虚g位置，安裝在爐體內(nèi)壁上，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)；所述固定修正裝置Ⅱ位于右側(cè)鹵素?zé)襞c電子槍中間位置，并安裝在爐體內(nèi)壁上，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)；所述固定修正裝置Ⅰ與固定修正裝置Ⅱ安裝高度一致；所述活動修正裝置位于爐體右側(cè)，位于電子槍上方，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置，其特征在于：所述蒸發(fā)源靠近爐體出風(fēng)口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置，其特征在于：所述離子源靠近爐門。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置，其特征在于：所述電子槍靠近爐門。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置，其特征在于：所述固定修正裝置Ⅰ上修正板靠近鍍膜機抽氣口。
一種電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜修正裝置
技術(shù)領(lǐng)域
背景技術(shù)
發(fā)明內(nèi)容
所述固定修正裝置Ⅰ位于左側(cè)兩個鹵素?zé)糁虚g位置，安裝在爐體內(nèi)壁上，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)；所述固定修正裝置Ⅱ位于右側(cè)鹵素?zé)襞c電子槍中間位置，并安裝在爐體內(nèi)壁上，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)；所述固定修正裝置Ⅰ與固定修正裝置Ⅱ安裝高度一致；所述活動修正裝置位于爐體右側(cè)，位于電子槍上方，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)。
圖中：1.固定修正裝置Ⅰ，2.固定修正裝置Ⅱ，3.活動修正裝置，4.爐體，5.離子源，6.鹵素?zé)簦?.蒸發(fā)源，8.電子槍。
具體實施方式
所述固定修正裝置Ⅰ1位于左側(cè)兩個鹵素?zé)糁虚g位置，安裝在爐體內(nèi)壁上，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)；所述固定修正裝置Ⅱ2位于右側(cè)鹵素?zé)襞c電子槍中間位置，并安裝在爐體內(nèi)壁上，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)；所述固定修正裝置Ⅰ1與固定修正裝置Ⅱ2安裝高度一致，所述固定修正裝置Ⅰ1上修正板靠近鍍膜機抽氣口；所述活動修正裝置3位于爐體右側(cè)，位于電子槍上方，能沿安裝位置水平方向旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)。
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