集成板式抗電磁干擾器件及其制備方法
專利匯可以提供集成板式抗電磁干擾器件及其制備方法專利檢索，專利查詢，專利分析的服務(wù)。并且本 發(fā)明 涉及一種集成板式抗 電磁干擾 器件，其包括第一屏蔽件、第二屏蔽件以及中空部分，其中第一屏蔽件和第二屏蔽件的內(nèi)部形成第一 磁場 空間，第一屏蔽件和第二屏蔽件的外部、殼體的內(nèi)部空間形成第二磁場空間。由于第二磁場空間中的磁場基本上不會穿過第一屏蔽件、第二屏蔽件以及中空部分泄露到第一磁場空間中，從而使得第一磁場空間中的磁場不受第二磁場空間中的磁場的干擾，這使得用于感測第一磁場空間中磁體 位置 變化的位置 傳感器 能正常工作。本發(fā)明還涉及一種集成板式抗電磁干擾器件的制備方法，該方法通過第一、第二磁場源的位置和范圍來確定第一屏蔽件和第二屏蔽件的位置和大小。該方法簡單可靠，且可驗(yàn)證屏蔽件的屏蔽效果。，下面是集成板式抗電磁干擾器件及其制備方法專利的具體信息內(nèi)容。
1.一種集成板式抗電磁干擾器件，其包括：
第一屏蔽件，其包括基部、從基部一端向上延伸的第一臂部和從基部另一端向下延伸的第二臂部，第一屏蔽件通過其第一臂部連接到殼體上；
與第一屏蔽件為相對布置的第二屏蔽件，其包括基部、從基部一端向上延伸的第一臂部和從基部另一端向下延伸的第二臂部，第二屏蔽件通過其第一臂部連接到殼體上；以及中空部分，其由第一屏蔽件的第二臂部和第二屏蔽件的第二臂部形成，中空部分的尺寸由穿過其的運(yùn)動(dòng)件的運(yùn)動(dòng)范圍確定；
其中第一屏蔽件和第二屏蔽件的內(nèi)部形成第一磁場空間，第一屏蔽件和第二屏蔽件的外部、殼體的內(nèi)部空間形成第二磁場空間，集成板式抗電磁干擾器件的這種構(gòu)造使得第一磁場空間中的磁場不受第二磁場空間中的磁場的干擾。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，磁體設(shè)置在運(yùn)動(dòng)件的頂部，磁體產(chǎn)生的磁場經(jīng)過第一磁場空間，位置傳感器處于磁體的相對側(cè)上并設(shè)置在殼體的外表面上，由于磁體產(chǎn)生的磁場不受第二磁場空間中的磁場的干擾，因而當(dāng)磁體與運(yùn)動(dòng)件相對于殼體向左或者向右運(yùn)動(dòng)時(shí)，磁體產(chǎn)生的磁場相對于位置傳感器發(fā)生變化，位置傳感器將其感測到磁體產(chǎn)生的磁場位置傳送給控制單元，控制單元根據(jù)接受到的磁場位置確定磁體的位置，進(jìn)而確定與磁體相連接的運(yùn)動(dòng)件的位置，從而控制運(yùn)動(dòng)件的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，
殼體包括：
第一殼體，其左側(cè)安裝有第一磁場源，并且用于感測磁體位置的位置傳感器處于磁體的相對側(cè)上且安裝在第一殼體的外表面上；以及
與第一殼體為相對布置的第二殼體，其右側(cè)安裝有第二磁場源；
其中，殼體由第一殼體和第二殼體合箱而形成，第一磁場源和第二磁場源產(chǎn)生的磁場穿過第二磁場空間，磁體產(chǎn)生的磁場穿過第一磁場空間，由于磁體產(chǎn)生的磁場不受第一磁場源和第二磁場源產(chǎn)生的磁場的影響，因而當(dāng)磁體與運(yùn)動(dòng)件相對于合箱后的殼體向左或者向右運(yùn)動(dòng)時(shí)，磁體產(chǎn)生的磁場相對于位置傳感器發(fā)生變化，位置傳感器將其感測到磁體產(chǎn)生的磁場位置傳送給控制單元，控制單元根據(jù)接受到的磁場位置確定磁體的位置，進(jìn)而確定與磁體相連接的運(yùn)動(dòng)件的位置，從而控制運(yùn)動(dòng)件的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，第一磁場源為車輛的第一電機(jī)，第二磁場源為車輛的第二電機(jī)，運(yùn)動(dòng)件為車輛傳動(dòng)系統(tǒng)的同步器撥叉，控制單元為車輛傳動(dòng)系統(tǒng)控制單元，車輛傳動(dòng)系統(tǒng)還包括與車輛的第一電機(jī)連接的第一離合器、與第二電機(jī)連接的第二離合器、傳動(dòng)軸、第一減速裝置以及第二減速裝置，其中第一電機(jī)通過第一離合器與傳動(dòng)軸連接，第二電機(jī)通過第二離合器與傳動(dòng)軸連接，傳動(dòng)軸通過同步器與第一減速裝置或第二減速裝置連接，從而將第一電機(jī)和/或第二電機(jī)的動(dòng)力傳輸?shù)?a href='/zhuanli/list-21725-1.html' target='_blank'>車輪上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，第一電機(jī)為驅(qū)動(dòng)電機(jī)，第二電機(jī)為集成起動(dòng)發(fā)電機(jī)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，第一屏蔽件和第二屏蔽件的第二臂部均包括第一翼部和第二翼部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，第一屏蔽件和第二屏蔽件的第一翼部和第二翼部均呈L型。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，第一殼體和第二殼體均包括本體和從本體向內(nèi)伸出的支撐部，第一屏蔽件的第一臂部連接到第一殼體的支撐部上，第二屏蔽件的第二臂部連接到第二殼體的支撐部上。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，第一磁場源和第二磁場源在位置傳感器處疊加后的磁場強(qiáng)度小于地球磁場強(qiáng)度的10倍。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，第一屏蔽件和第二屏蔽件由鋼片制成。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的集成板式抗電磁干擾器件，其特征在于，鋼片的厚度至少為約1毫米。
12.一種如權(quán)利要求1-11所述的集成板式抗電磁干擾器件的制備方法，所述方法包括以下步驟：
步驟1: 確定第一磁場源和第二磁場源的位置以及利用磁場測試儀檢測第一磁場源和第二磁場源產(chǎn)生的磁場的范圍和強(qiáng)度，根據(jù)檢測結(jié)果繪制第一磁場源和第二磁場源的磁場分布圖譜;
步驟2：基于第一磁場源的位置和第二磁場源的位置確定位置傳感器的位置;
步驟3：基于位置傳感器的位置確定磁體的位置，利用磁場測試儀檢測磁體的磁場并根據(jù)檢測結(jié)果繪制磁體的磁場分布圖譜;
步驟4：基于運(yùn)動(dòng)件的范圍確定中空部分的尺寸；
步驟5：基于第一磁場源和第二磁場源的磁場的水平距離和中空部分的尺寸確定實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部沿第一水平軸方向的尺寸； 步驟6：僅將步驟3繪制的磁體的磁場分布圖譜輸入到仿真軟件，沿豎直方向調(diào)整測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件的位置，將施加測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件后位置傳感器處磁體產(chǎn)生的磁場不受干擾時(shí)的測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件到磁體的豎直距離作為實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部到磁體的豎直距離；
步驟7：僅將步驟1繪制的第一磁場源和第二磁場源的磁場分布圖譜輸入到仿真軟件，調(diào)整測試用第一屏蔽件的水平基部測試用第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸方向的尺寸和測試用第一屏蔽件的第二臂部以及測試用第二屏蔽件的第二臂部的尺寸，當(dāng)?shù)谝淮艌鲈春偷诙艌鲈吹拇艌鲈谖恢脗鞲衅魈幍膹?qiáng)度被減小到地磁場10倍以下時(shí)，將此時(shí)測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸方向的尺寸作為實(shí)際制備的第一屏蔽件的水平基部和第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸的尺寸，并將此時(shí)測試用第一屏蔽件的第二臂部以及測試用第二屏蔽件的第二臂部的尺寸作為實(shí)際制備的第一屏蔽件的第二臂部的尺寸和第二屏蔽件的第二臂部的尺寸；
步驟8: 基于實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的厚度、材料強(qiáng)度及水平基部的尺寸確定實(shí)際制備的第一屏蔽件的第一臂部和第二屏蔽件的第一臂部的尺寸，使得實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件在其各自的第二臂部處的振動(dòng)幅度小于振動(dòng)幅度設(shè)定值；以及 步驟9: 基于實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部的尺寸、第一臂部尺寸、第二臂部尺寸以及中空部分的尺寸制備集成板式抗電磁干擾器件。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，第一屏蔽件和第二屏蔽件由鋼片制成。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，在步驟1和3中，能夠利用微軟辦公軟件EXCEL繪制第一磁場源、第二磁場源以及磁體的磁場。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，在步驟2中，在第一磁場源與第二磁場源之間，在第一磁場源的磁場分布圖譜與第二磁場源的磁場分布圖譜疊加后的磁場中將磁場強(qiáng)度最弱的位置確定為位置傳感器的位置。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，在步驟3中，磁體沿第一水平軸的運(yùn)動(dòng)范圍與位置傳感器沿第一水平軸的測量范圍基本一致，磁體在第二水平軸的位置為位置傳感器沿第二水平軸的測量范圍的中間位置，磁體在豎直方向上與位置傳感器間隔開3-6mm。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，在步驟6中施加測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件后位置傳感器處磁體產(chǎn)生的磁場不受干擾是指施加測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件后位置傳感器處磁體產(chǎn)生的磁場小于未施加測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件前的位置傳感器處磁體產(chǎn)生的磁場的大約10%。
18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，在步驟8中，振動(dòng)幅度設(shè)定值為1mm。
19.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件沿第二水平軸的尺寸能夠覆蓋第一磁場源和第二磁場源之間的空間沿第二水平軸的整個(gè)長度。
集成板式抗電磁干擾器件及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
背景技術(shù)
發(fā)明內(nèi)容
步驟2：基于第一磁場源的位置和第二磁場源的位置確定位置傳感器的位置;
步驟3：基于位置傳感器的位置確定磁體的位置，利用磁場測試儀檢測磁體的磁場并根據(jù)檢測結(jié)果繪制磁體的磁場分布圖譜;
步驟4：基于運(yùn)動(dòng)件的范圍確定中空部分的尺寸；
步驟5：基于第一磁場源和第二磁場源的磁場的水平距離和中空部分的尺寸確定實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部沿第一水平軸方向的尺寸； 步驟6：僅將步驟3繪制的磁體的磁場分布圖譜輸入到仿真軟件，沿豎直方向調(diào)整測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件的位置，將施加測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件后位置傳感器處磁體產(chǎn)生的磁場不受干擾時(shí)的測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件到磁體的豎直距離作為實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部到磁體的豎直距離；
步驟7：僅將步驟1繪制的第一磁場源和第二磁場源的磁場分布圖譜輸入到仿真軟件，調(diào)整測試用第一屏蔽件的水平基部測試用第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸方向的尺寸和測試用第一屏蔽件的第二臂部以及測試用第二屏蔽件的第二臂部的尺寸，當(dāng)?shù)谝淮艌鲈春偷诙艌鲈吹拇艌鲈谖恢脗鞲衅魈幍膹?qiáng)度被減小到地磁場10倍以下時(shí)，將此時(shí)測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸方向的尺寸作為實(shí)際制備的第一屏蔽件的水平基部和第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸的尺寸，并將此時(shí)測試用第一屏蔽件的第二臂部以及測試用第二屏蔽件的第二臂部的尺寸作為實(shí)際制備的第一屏蔽件的第二臂部的尺寸和第二屏蔽件的第二臂部的尺寸；
步驟8: 基于實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的厚度、材料強(qiáng)度及水平基部的尺寸確定實(shí)際制備的第一屏蔽件的第一臂部和第二屏蔽件的第一臂部的尺寸，使得實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件在其各自的第二臂部處的振動(dòng)幅度小于振動(dòng)幅度設(shè)定值；以及 步驟9: 基于實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部的尺寸、第一臂部尺寸、第二臂部尺寸以及中空部分的尺寸制備集成板式抗電磁干擾器件。
3 第二磁場源
31 第一屏蔽件
33 第二屏蔽件
35 中空部分
40 第一殼體
42 第二殼體
50 磁體
60 位置傳感器
80 運(yùn)動(dòng)件
310、330 水平基部
312、332 第一臂部
314、334 第二臂部
具體實(shí)施方式
步驟S12: 確定第一磁場源和第二磁場源的位置以及利用磁場測試儀檢測第一磁場源和第二磁場源產(chǎn)生的磁場的范圍和強(qiáng)度，根據(jù)檢測結(jié)果繪制第一磁場源和第二磁場源的磁場分布圖譜;
步驟S14：基于第一磁場源的位置和第二磁場源的位置確定位置傳感器的位置;
步驟S16：基于位置傳感器的位置確定磁體的位置，利用磁場測試儀檢測磁體的磁場并根據(jù)檢測結(jié)果繪制磁體的磁場分布圖譜;
步驟S18：基于運(yùn)動(dòng)件的范圍確定中空部分的尺寸；
步驟S20：基于第一磁場源和第二磁場源的磁場的水平距離和中空部分的尺寸確定實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部沿第一水平軸方向的尺寸； 步驟S22：
僅將步驟3繪制的磁體的磁場分布圖譜輸入到仿真軟件，沿豎直方向調(diào)整測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件的位置，將施加測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件后位置傳感器處磁體產(chǎn)生的磁場不受干擾時(shí)的測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件到磁體的豎直距離作為實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部到磁體的豎直距離；
步驟S24：僅將步驟1繪制的第一磁場源和第二磁場源的磁場分布圖譜輸入到仿真軟件，調(diào)整測試用第一屏蔽件的水平基部測試用第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸方向的尺寸和測試用第一屏蔽件的第二臂部以及測試用第二屏蔽件的第二臂部的尺寸，當(dāng)?shù)谝淮艌鲈春偷诙艌鲈吹拇艌鲈谖恢脗鞲衅魈幍膹?qiáng)度被減小到地磁場10倍以下時(shí)，將此時(shí)測試用第一屏蔽件和測試用第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸方向的尺寸作為實(shí)際制備的第一屏蔽件的水平基部和第二屏蔽件的水平基部沿第二水平軸的尺寸，并將此時(shí)測試用第一屏蔽件的第二臂部以及測試用第二屏蔽件的第二臂部的尺寸作為實(shí)際制備的第一屏蔽件的第二臂部的尺寸和第二屏蔽件的第二臂部的尺寸；
步驟S26: 基于實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的厚度、材料強(qiáng)度及水平基部的尺寸確定實(shí)際制備的第一屏蔽件的第一臂部和第二屏蔽件的第一臂部的尺寸，使得實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件在其各自的第二臂部處的振動(dòng)幅度小于振動(dòng)幅度設(shè)定值；
步驟S328: 基于實(shí)際制備的第一屏蔽件和第二屏蔽件的水平基部的尺寸、第一臂部尺寸、第二臂部尺寸以及中空部分的尺寸制備集成板式抗電磁干擾器件; 以及步驟S30：集成板式抗電磁干擾器件的制備方法結(jié)束。
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